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光刻胶 是光刻工艺 的关键材料 ,光刻工艺是集成电路制造的核心工艺 。光刻胶是利用光化学反应,经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质,是光刻工艺得以实现选择性刻蚀的关键材料,被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作。
艾森股份——先进封装材料国产替代
【风口小作文】:《艾森股份(688720):电子化学品专精特新小巨人,引领先进封装材料国产替代》
【国投证券电子|高端国产替代系列】光刻胶:半导体制造核心材料,国产替代突围在即
光刻胶深度研报:半导体制造核心材料,国产替代突围在即(附下载)
分享内容包括:新材料/半导体/新能源/光伏/显示材料等
【国产替代】光刻胶-半导体制造核心材料,国产替代突围在即(附29页PPT)
A+轮|感光材料的国产化替代项目【独角兽展示】
半导体光刻胶国产化率极低,在国产替代迫切需求下,光刻胶国内厂商大力投入高端光刻胶产业化,g/i线产品布局全面,积极布局并推进高端KrF、ArF光刻胶的研发送样。彤程新材(北京科华)、鼎龙股份、晶瑞电材、徐州博康(华懋科技)、上海新阳等国内厂商进展相对较快。根据多家公司公告,KrF胶国产主流厂商如彤程新材、徐州博康(华懋科技)、晶瑞电材、上海新阳处于产能爬坡/小批量供货阶段。ArF光刻胶方面,彤程新材已具备量产能力。同时,同步培养上游原材料端的自研自产能力,有望从根本上解决卡脖子问题。
作为一种新型的计算机,量子计算机的出现让我们重新审视计算能力的极限。在量子计算机中,量子比特的量子态可以实现超级叠加和纠缠,使得数据处理速度大大增强。这是普通的经典计算机所不具备的能力。因此,量子计算机的出现给人们带来了许多希望与可能。
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