光刻机有了，中国半导体的崛起还差什么？

外向笑小鸭子 2023-12-25 22:40:07  51159

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5月，长江存储首台光刻机运抵武汉，这台光刻机为ASML的193nm浸润式光刻机，用于14nm-20nm工艺；中芯国际从荷兰ASML预订了一台EUV极紫外光刻机，预计2019年交付，中芯国际开始布局7NM芯片的生产制造。

从巴统到瓦森纳协议，国外对我国进行了长达半个世纪的高新技术、设备封锁，我国无法获得国外先进的光刻机，这严重的影响了我国半导体行业的发展。但是，现在我国成功的引进了国外先进的光刻机。似乎中国半导体行业崛起在即。

但是，有了光刻机，中国半导体行业就真的解决了走向崛起的难题了吗？并不是。光刻胶，也是中国半导体发展的拦路虎。

光刻的原理是，通过激光或电子束把设计电路图直接写在了光掩模版上，然后像拍照一样，用激光辐照光掩模版，晶圆上的光敏物质（光刻胶或光阻）因感光而发生材料性质的改变，通过显影，硅片便拥有了微电路。

光刻的一般步骤：基片前处理、涂光刻胶、前烘(软烘焙)、对准和曝光(A＆E) 、显影、后烘(坚膜)、刻蚀、去除光刻胶。光刻胶是微电路加工（光刻）的关键材料之一。

光刻胶是由感光树脂、增感剂（见光谱增感染料）和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的，粘附性、抗蚀性、流动性好的混合液体。光刻胶技术复杂，品种较多。

光刻胶是光刻微电路必不可少的化学材料，也是电子化学品中技术壁垒最高的材料，具有纯度要求高、生产工艺复杂、生产及检测等设备投资大、技术积累期长等特征。

全球光刻胶市场基本被日本、美国等国家与地区的几家大型企业所垄断，如日本合成橡胶（JSR）、东京应化（TOK）、住友化学、美国杜邦等。

我国的光刻胶产能主要集中在PCB 光刻胶、TN/STN-LCD 光刻胶等中低端产品,而我国的LCD和半导体用光刻胶产能仅仅只占总产能的不到10％，而我国的LCD和半导体用光刻胶产能相比需求则只占约8％左右。

随着我国半导体的快速发展，每年对光刻胶的需求在日益上升。2017年，我国对光刻胶的需求占全球需求的12％，预计2025年，我的光刻胶需求可能将占全球的15％-20％。

我国在光刻胶，以及其他半导体材料上的不足，以及对国外的依赖，或在未来会成为制约我国半导体行业发展的重要因素。发展半导体并不是有先进的光刻机就完事大吉了。中国半导体的发展还有许多路要走。

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